TASML | Carroll Fletcher 中国艺术家海外驻留奖公开征集方案
本驻留计划向中国大陆,台湾,香港以及海外中国艺术家开放。 截止日期:2013年5月10日,申请文件必须使用英文,申请人须有英文交流能力。

在伦敦当代艺术画廊 Corroll / Fletcher 画廊的支持下,TASML 很高兴宣布新一轮中国艺术家国际驻留奖的设立。本奖项旨在为新兴中国媒体艺术家提供独特的机会,进入若干国际上极具创新力的媒体艺术及设计实验室, 从事在艺术及科技交叉学科间的前沿性研究和创作。自2013年3月至2015年2月, 每年将通过项目公开选拔向2位中国艺术家颁发该奖。本奖项还与“夏季驻留:国际(媒体艺术)人才网”合作,将使得奖艺术家有机会量体裁衣,从全球合作实验室自选对口实验室进入驻留。得奖人将获得奖金用以制作,旅费,住宿及生活开支。
TASML与伙伴机构V2实验室“V2暑期组”合作推出“TASML/DSL 2011-2013艺术家驻留奖”的首个驻留计划,经公开选拔挑选一名艺术家前往位于鹿特丹的v2实验室进行为期6周的驻留。V2实验室是一个艺术和媒体技术交叉学科中心,组织活动包括报告、展览、工作坊、出版艺术和媒体技术书籍、开发在线档案库等。V2实验室鼓励艺术家、技术人员和科学家利用新技术合作完成艺术项目。此次驻留的三个研究方向分别是:可穿戴技术, 增强现实与生态艺术。
Pages: 1/1 First page 1 Final page [ View by Articles | List ]